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硅化石墨的介紹

鉅大鋰電  |  點擊量:0  |  2018年06月07日  

  炭石墨材料具有自潤滑性,機械強度高、摩擦系數(shù)低、耐高溫、抗磨性好,廣泛用于機械、化工、石油、儀表、水泵等領(lǐng)域。常規(guī)的石墨材料抗磨性和耐腐蝕性都不太理想,而硅化石墨作為一種新穎的工程材料,具有碳石墨和碳化硅兩種材料的性能,用途十分廣泛。

  一.何為硅化石墨?

  硅化石墨是指在石墨材料表面涂覆碳化硅層而構(gòu)成的一種復(fù)合材料。碳化硅層厚為1~1.5mm,碳化硅層和石墨基體結(jié)合緊密。硅化石墨的硬度實為SiC的硬度,它僅次于金剛石、氮化硼、碳化硼,比碳化鎢、三氧化二鋁等的硬度高。

  硅化石墨不僅具有碳石墨材料的自潤滑性,良好的導(dǎo)電導(dǎo)熱性,抗熱震性和密封性,還具有碳化硅的高強度、抗氧化、耐化學(xué)腐蝕等優(yōu)點,并且特別適合于在重載、高溫等苛刻場合下的應(yīng)用,因此,硅化石墨材料越來越廣泛的應(yīng)用于密封、摩擦、化工、冶金及宇航和核工業(yè)等領(lǐng)域。

  二.硅化石墨的制備

  硅化石墨的生產(chǎn)方法主要有三種化學(xué)氣相沉積法(CVD),化學(xué)氣相反應(yīng)法(CVR)及液硅滲透反應(yīng)法。

  1.化學(xué)氣相沉積(CVD))法

  使含硅、碳的氣體通過高溫石墨基體發(fā)生熱分解,生成SiC沉積在石墨基體表面。原料為三氯甲基硅烷(CH3SiC3)、四氯化硅、氫、硅蒸氣等。沉積溫度范圍較寬,從1175℃到1775℃。用此法生成的SiC層非常致密,厚薄均勻,一般厚度約為0.1~0.3mm。但SiC與石墨基體的結(jié)合為純機械結(jié)合,結(jié)合力較弱,在溫度急變時SiC層易發(fā)生龜裂、剝落。

  2.化學(xué)氣相反應(yīng)法(CVR)

  原料為焦炭粉和過量的石英砂或無定形硅粉,當(dāng)加熱到2000℃時發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成SiO蒸氣。SiO蒸氣和碳基體反應(yīng)生成SiC。SiC層和碳基體二者無明顯界面,結(jié)合很牢固,在溫度驟變及高負(fù)荷情況下不會脫落,但CVR法是SiO氣體滲入碳基體內(nèi)進行反應(yīng),因此,仍然保留了碳基體的多孔性,在用作密封材料時,需用樹脂浸漬或CVD法進行孔隙的填充。

  3.液硅滲透法

  此法也屬于CVR的一種。在真空條件下,加熱到1700-1900℃,將碳基體直接浸入熔融的硅液中,液硅逐步滲入碳基體內(nèi)部,發(fā)生反應(yīng)生成SiC。原料為99.9999%的純硅。SiC層厚度可達(dá)3.5mm。反應(yīng)后,碳基體內(nèi)含有約17%的游離硅填充基體的孔隙中,使基體變得致密不透。但游離硅的存在降低了硅化石墨的抗腐蝕性能和高溫抗氧化性能。

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